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低溫等離子廢氣處理設備

低溫等離子廢氣處理設備

低溫等離子體技術(shù)在氣態(tài)污染物治理方面優(yōu)勢顯著(zhù)。其基本原理是在電場(chǎng)的加速作用下,產(chǎn)生電子,當電子平均能量超過(guò)目標治理物分子化學(xué)鍵能時(shí),分子鍵斷裂,達到消除氣態(tài)...
       低溫等離子體技術(shù)在氣態(tài)污染物治理方面優(yōu)勢顯著(zhù)。其基本原理是在電場(chǎng)的加速作用下,產(chǎn)生電子,當電子平均能量超過(guò)目標治理物分子化學(xué)鍵能時(shí),分子鍵斷裂,達到消除氣態(tài)污染物的目的。

一、低溫等離子體去除污染物的機理:
       等離子體化學(xué)反應過(guò)程中,等離子體傳遞的化學(xué)能量在反應過(guò)程中能量的傳遞大致如下:
       (1)電場(chǎng)+電子→電子
       (2)電子+分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團)活性基團
       (3)活性基團+分子(原子)→生成物+熱
       (4)活性基團+活性基團→生成物+熱

       從以上過(guò)程可以看出,電子從電場(chǎng)獲得能量,通過(guò)激發(fā)或電離將能量轉移到分子或原子中去,獲得能量的分子或原子被激發(fā),同時(shí)有部分分子被電離,從而成為活性基團;之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產(chǎn)物和熱。另外,電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類(lèi)負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學(xué)反應中起著(zhù)重要的作用。

二、低溫等離子體去除污染物的原理:
       低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為:在外加電場(chǎng)的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學(xué)反應,使復雜大分子污染物轉變?yōu)楹?jiǎn)單小分子物質(zhì),或使有毒有害物質(zhì)轉變成低毒低害的物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev,適當控制反應條件可以實(shí)現一般情況下難以實(shí)現或速度很慢的化學(xué)反應變得十分快速。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項具有極強優(yōu)勢的高新技術(shù),等離子體受到了國內外化工廢氣治理方面的高度評價(jià)。

三、低溫等離子體技術(shù)在環(huán)境工程中的應用:
       隨著(zhù)工業(yè)經(jīng)濟的發(fā)展,石油、制藥、油漆、印刷和涂料等行業(yè)產(chǎn)生的揮發(fā)性有機廢氣也日漸增多。這些廢氣不僅會(huì )在大氣中停留較長(cháng)的時(shí)間,還會(huì )擴散和漂移到較遠的地方,給環(huán)境帶來(lái)嚴重的污染。這些廢氣吸入人體,直接對人體的健康產(chǎn)生危害,工業(yè)廢氣的無(wú)控制排放使大氣環(huán)境日益惡化。因此選擇一種經(jīng)濟、可行性強的處理方法勢在必行。低溫等離子廢氣處理設備在此情況下應運而生。
       降解揮發(fā)性有機污染物(VOCs)傳統的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒等,對于低濃度的VOCs很難實(shí)現,利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制,具有很大的優(yōu)勢。但由于等離子體是一門(mén)包含放電物理學(xué)、放電化學(xué)、化學(xué)反應工程學(xué)等基礎學(xué)科之上的交叉學(xué)科。因此,目前能成熟的掌握該技術(shù)的單位非常的少。大部分宣傳采用低溫等離子技術(shù)處理廢氣的宣傳都不是真正意義上的低溫等離子廢氣處理技術(shù)或根本達不到所要求的處理效率。

四、我公司低溫等離子體處理設備的特點(diǎn):
1、工藝簡(jiǎn)潔:低溫等離子體設備,操作簡(jiǎn)單,無(wú)需專(zhuān)人看管,遇故障自動(dòng)停機報警,并實(shí)現遠距離遙控,更方便。
2、節能:低溫等離子體處理工業(yè)廢氣能耗低,運行費用低廉,2~5瓦時(shí)/立方米;
3、適應范圍廣:在-60℃<至+300℃的環(huán)境內均可正常運轉,特別是在潮濕,甚至空氣濕度飽和的環(huán)境下仍可正常運行。
4、設備使用壽命長(cháng):本設備由不銹鋼材,鈦合金等等材料組成,在酸堿性氣體中耐腐蝕。
5、組合性強:低溫等離子體處理設備可以竄并聯(lián)混合應用。
6、500~2000立方米/時(shí)為一個(gè)低溫等離子體處理裝置單元,一個(gè)單元用一個(gè)脈沖電源激勵。
7、在處理易燃,易爆氣體時(shí)為了達到,我公司的低溫等離子廢氣處理設備,采用了極其嚴密的多重保護(其中包括VOC濃度自檢,自控停機,多點(diǎn)卸爆等)。
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